DB-FIB

Met de snelle vooruitgang van halfgeleiderelektronica en geïntegreerde circuittechnologieën, neemt de complexiteit van apparaat- en circuitstructuren toe. Hierdoor worden de eisen voor diagnostiek van micro-elektronische chipprocessen, faalanalyse en micro-/nanofabricage steeds hoger.Het Dual Beam FIB-SEM-systeemis, met zijn krachtige precisiebewerking en microscopische analysemogelijkheden, onmisbaar geworden in het ontwerp en de productie van micro-elektronica.

Het Dual Beam FIB-SEM-systeemIntegreert zowel een Focused Ion Beam (FIB) als een Scanning Electron Microscope (SEM). Het maakt realtime SEM-observatie van FIB-gebaseerde microbewerkingsprocessen mogelijk, waarbij de hoge ruimtelijke resolutie van de elektronenbundel wordt gecombineerd met de nauwkeurige materiaalverwerkingsmogelijkheden van de ionenbundel.